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勻膠過程介紹一個典型的勻膠過程包括滴膠,高速旋轉(zhuǎn)以及干燥(溶劑揮發(fā))幾個步驟。滴膠這一步把光刻膠滴注到基片表面上,高速旋轉(zhuǎn)把光刻膠鋪展到基片上形成簿層,干燥這一步除去膠層中多余的溶劑。兩種常用的滴膠方式是靜態(tài)滴膠和動態(tài)滴膠。靜態(tài)滴膠就是簡單...
一些噴漆涂裝的術(shù)語和說明:☆耐沖擊性impactresistance涂膜抵抗突然沖擊而不開裂或剝離的能力?!畹庵礽odinevalue油或樹脂的不飽和度的量度。試樣在規(guī)定條件下吸收磺的品質(zhì),以每100g試樣吸收磺的克數(shù)表示?!钚夂騧icroclimate在試驗(yàn)涂料時的小氣候條件。小氣候的溫度、濕度和光照條件具有任何特定天然氣候的特性。為了便于試驗(yàn),這些氣候條件已居特定的房間或較小的箱中再現(xiàn)?!钗土縪ilabsorptionvalue在規(guī)定試驗(yàn)條件下,用于粘結(jié)給定品質(zhì)的顏料...
本文介紹電阻法測量金屬薄膜的厚度,并與光干涉法測量的結(jié)果進(jìn)行比較,*實(shí)驗(yàn)教學(xué)的要求,電阻法測金屬膜厚,所用儀器價廉,操作簡單,此法可廣泛用于學(xué)生鍍膜實(shí)驗(yàn)?zāi)ず竦臏y量。真空鍍膜技術(shù)不斷提高,金屬膜己在光學(xué)薄膜技術(shù),半導(dǎo)體器件中得到了廣泛的應(yīng)用7真空鍍膜技術(shù)是近代物理實(shí)驗(yàn)教學(xué)的基本實(shí)驗(yàn)之一,由于條件限制,金屬膜厚的測量沒有普遍地開展,下面介紹一種簡單適用的金屬膜厚的測量方法實(shí)驗(yàn)原理實(shí)驗(yàn)表明,導(dǎo)體的電阻與其材料的幾何形狀及溫度有關(guān),對于由一定材料制成的橫截面均勻的導(dǎo)體,其電阻由下式?jīng)Q...
物理學(xué)和電子學(xué)采用較多的制作方法是:1)真空蒸鍍法2)濺射法3)氣相外延法。膜厚,即測量的膜厚值,對研究薄膜的物理性質(zhì)很重要。厚度一般在10-7~10-5cm之間。真空蒸鍍法真空的必要性:1)防止高溫下空氣分子和蒸發(fā)源發(fā)生反應(yīng),生成化合物而使蒸發(fā)源劣化;2)防止蒸發(fā)物質(zhì)分子與空氣分子發(fā)生碰撞而阻礙其到達(dá)基片表面,和在途中生成化合物或由于蒸發(fā)分子間的碰撞而在到達(dá)基片前就凝聚等;3)防止在基片上形成薄膜的過程中,空氣分子作為雜質(zhì)混入膜內(nèi)或在膜內(nèi)形成化合物。如何計算蒸鍍時需要的真空...
涂膜和測試片涂膜對于諸如油漆、墨水、清漆、膠水和化妝品等眾多產(chǎn)品,許多實(shí)驗(yàn)室測試的可靠性與樣品的質(zhì)量和一致性有直接的關(guān)系。要確保重復(fù)性和再現(xiàn)性,任何一種在此類涂層上進(jìn)行的測試,無論是為了說明其物理特性(干燥時間、彈性、耐磨損性等)還是外觀性能(光澤、顏色、色度等),基礎(chǔ)條件就是樣本必須均勻、可比較,厚度控制。為滿足這種特殊需求提供了種類繁多的高精度涂膜器和涂膜棒,為大量的樣本測試提供了更高的重復(fù)性和再現(xiàn)性。若要得到zui高的重復(fù)性和再現(xiàn)性,手動涂膜則難以滿足要求,因?yàn)槠崃鞯乃?..
涂層測厚儀可無損地測量磁性金屬基體(如鋼、鐵、合金和硬磁性鋼等)上非磁性涂層的厚度(如鋁、鉻、銅、琺瑯、橡膠、油漆等),以及非磁性金屬基體(如銅、鋁、鋅、錫等)上非導(dǎo)電覆層的厚度(如:琺瑯、橡膠、油漆、塑料等)。涂鍍層測厚儀具有測量誤差小、可靠性高、穩(wěn)定性好、操作簡便等特點(diǎn),是控制和保證產(chǎn)品質(zhì)量*的檢測儀器,廣泛地應(yīng)用在制造業(yè)、金屬加工業(yè)、化工業(yè)、商檢等檢測領(lǐng)域。涂層測厚儀一般都包括探頭或測頭、機(jī)體、輸出裝置,但不同廠家生產(chǎn)的涂裝測厚儀形狀、結(jié)構(gòu)、大小等存在較大差異,同一廠家...